Estudio de los parámetros del plasma fundamentales por HG ICP-OES con un sistema de generación de hidruro doble

Nereida Carrión, Miguel Murillo, Héctor Rodríguez, José Chirinos, Dorfe Díaz

Resumen


En este trabajo se realizó un estudio del efecto del hidrógeno producido en la generación de hidruros sobre las características del plasma en espectroscopia de emisión óptica con plasma inductivamente acoplado con un sistema dual-generador de hidruros. Las condiciones de excitación mejoran en comparación con la nebulización estándar. La temperatura de excitación, la densidad electrónica y la relación Mg (II)/Mg (I) se incrementaron significativamente cuando el sistema fue operado en el modo dual, incluso a muy bajos flujos de reductor. Las magnitudes de estos parámetros aumentaron con el incremento del flujo del reductor y la concentración ácida.


Palabras clave


plasma inductivamente acoplado; generación de hidruros; generador dual; diagnóstico de plasmas.

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Depósito Legal: PPI200602ME2232
ISSN: 1856-5301

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